林育才

化學反應對化學氣相沉積法的影響=the effect of chemical reactions on the modified chemical vapor deposition process by: 林育才; 私立元智工學院機械工程學系 ([NT 13] Microfilm)

高速熱處理中晶圓溫度均勻性之探討=temperature uniformity during rapid thermal processing by: 元智工學院機械工程學系; 林育才 ([NT 13] Microfilm) , [著]

冷媒(r-22),冷凍油在平滑管及熱傳增強管之池沸騰熱傳性能實驗分析 by: 林育才; 鍾弘道 ([NT 13] Microfilm) , [指導]

管壁厚度對改良式化學氣相沈積法的影響=effect of solid layer for the modified chemical vapor deposition process by: 元智工學院機械工程學系; 林育才 ([NT 13] Microfilm) , [著]

lpcvd製程中之熱輻射分析 by: 林育才; 謝宜樺 ([NT 13] Microfilm) , [指導]

高速熱處理的三維熱流分析 by: 林育才; 私立元智工學院機械工程學系 ([NT 13] Microfilm)

熱輻射在高速熱處理中對晶圓溫度的影響=radiation effect on wafer temperature during rpid thermal processing by: 元智大學機械工程學系; 林育才 ([NT 13] Microfilm)

冷煤r-22與r-407c在水平絕熱及螺旋絕熱毛細管之質流特性分析 by: 林育才; 謝誌仁 ([NT 13] Microfilm) , [指導]