大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

碳化矽/氧化鋯/氣化鋁複合材料的高溫氧化行為

~

交通大學材料科學與工程所

碳化矽/氧化鋯/氣化鋁複合材料的高溫氧化行為

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	蔡宛秀
其他團體作者:	交通大學材料科學與工程所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	108頁 : 11x15公分;
標題:	工程材料 -
附註:	MOE88-0007-8718549

碳化矽/氧化鋯/氣化鋁複合材料的高溫氧化行為
蔡宛秀

碳化矽/氧化鋯/氣化鋁複合材料的高溫氧化行為 / 蔡宛秀撰 ; 交通大學材料科學與工程所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 108頁 ; 11x15公分.
MOE88-0007-8718549.
工程材料

碳化矽/氧化鋯/氣化鋁複合材料的高溫氧化行為
LDR:00404nhm 2200133 450 001 291390
009 9205410
100 $a 20100608d1999 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 碳化矽/氧化鋯/氣化鋁複合材料的高溫氧化行為 $f 蔡宛秀撰 $g 交通大學材料科學與工程所
210 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 $d 1999
215 $a 108頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-0007-8718549
606 $a 工程材料 $3 14660
700 $a 蔡宛秀 $4 撰 $3 319695
712 $a 交通大學材料科學與工程所 $3 319156
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20030312

筆 0 讀者評論

館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833440300001031

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440.3 4432-B V1

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

833440300001032

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440.3 4432-B V2

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

2 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入