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超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究

~

交通大學電子工程所

超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究

纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
作者:	陳志遠
其他团体作者:	交通大學電子工程所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面页册数:	85頁 : 11x15公分;
标题:	電子工程 -
附注:	MOE88-0007-8711562

超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究
陳志遠

超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究 / 陳志遠撰 ; 交通大學電子工程所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 85頁 ; 11x15公分.
MOE88-0007-8711562.
電子工程

超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究
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馆藏

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典藏地名称

馆藏流通类别

833448600001058

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 7543-C

1.一般(Normal)

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