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深紫外光正型化學倍增式光阻劑之合成與性質研究(Ⅰ)

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國立清華大學化學工程研究所

深紫外光正型化學倍增式光阻劑之合成與性質研究(Ⅰ)

Record Type:	Microfilm : monographic
Author:	李育德
Secondary Intellectual Responsibility:	國立清華大學化學工程研究所
Place of Publication:	台北市
Published:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
Description:	57頁 : 11x15公分;
Subject:	化學工程 -
Notes:	NSC86-2216-E007-001

深紫外光正型化學倍增式光阻劑之合成與性質研究(Ⅰ)
李育德

深紫外光正型化學倍增式光阻劑之合成與性質研究(Ⅰ) / 李育德撰 ; 國立清華大學化學工程研究所 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 57頁 ; 11x15公分.
NSC86-2216-E007-001.
化學工程

深紫外光正型化學倍增式光阻劑之合成與性質研究(Ⅰ)
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