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rf濺鍍成長tanx薄膜及其在積體電路之銅製程上的應用

~

林俊成

rf濺鍍成長tanx薄膜及其在積體電路之銅製程上的應用

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	林俊成
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	227頁 :
標題:	化學工程 -
附註:	MOE87-0102-D8506002-D;李嘉平指導教授

rf濺鍍成長tanx薄膜及其在積體電路之銅製程上的應用
林俊成

rf濺鍍成長tanx薄膜及其在積體電路之銅製程上的應用 / 林俊成撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 227頁.
MOE87-0102-D8506002-D;李嘉平指導教授.
化學工程

rf濺鍍成長tanx薄膜及其在積體電路之銅製程上的應用
LDR:00383nhm 2200133 450 001 128171
009 9000834
100 $a 20100607 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a rf濺鍍成長tanx薄膜及其在積體電路之銅製程上的應用 $f 林俊成撰
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 227頁
300 $a MOE87-0102-D8506002-D;李嘉平指導教授
606 $a 化學工程 $3 4223
700 $a 林俊成 $4 撰 $3 9619
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20010118

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典藏地名稱

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833460000000754

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