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在不同基板溫度下以磁控濺鍍法成長氮化鎵薄膜之研究

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中山大學物理所

在不同基板溫度下以磁控濺鍍法成長氮化鎵薄膜之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	徐國洲
其他團體作者:	中山大學物理所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	92頁 : 11x15公分;
標題:	物理 -
附註:	MOE88-0009-8623620

在不同基板溫度下以磁控濺鍍法成長氮化鎵薄膜之研究
徐國洲

在不同基板溫度下以磁控濺鍍法成長氮化鎵薄膜之研究 / 徐國洲撰 ; 中山大學物理所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 92頁 ; 11x15公分.
MOE88-0009-8623620.
物理

在不同基板溫度下以磁控濺鍍法成長氮化鎵薄膜之研究
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833330000000632

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3.不外借

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