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應用電子束輻射提昇絕緣閘雙極性電晶體切換速度之研究與分析
~
林偉捷
應用電子束輻射提昇絕緣閘雙極性電晶體切換速度之研究與分析
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
林偉捷
其他團體作者:
清華大學電子工程所
出版者:
行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:
1999
面頁冊數:
121頁 : 11x15公分;
標題:
電子工程 -
附註:
MOE88-0002-G875033
應用電子束輻射提昇絕緣閘雙極性電晶體切換速度之研究與分析
林偉捷
應用電子束輻射提昇絕緣閘雙極性電晶體切換速度之研究與分析
/ 林偉捷 撰 ; 清華大學電子工程所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 121頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-G875033.
電子工程
應用電子束輻射提昇絕緣閘雙極性電晶體切換速度之研究與分析
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20030130
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三樓視聽資料區
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833448600000889
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1.一般(Normal)
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MF 448.6 4425 V2
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