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以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
~
賴俊義
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
賴俊義
出版地:
台北巿
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
123頁 :
標題:
電子工程 -
附註:
MOE87-1004-8676005;高慧玲 指導教授
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
賴俊義
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
/ 賴俊義 撰 - 台北巿 : 國科會科學技術資料中心 - 123頁.
MOE87-1004-8676005;高慧玲 指導教授.
電子工程
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
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20010205
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
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833448600000789
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3.不外借
微縮資料
MF 448.6 5728-A V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833448600000790
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料
MF 448.6 5728-A V2
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
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