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快中子照射在矽晶圓內部去疪製程的改善與研究

~

魏俊桓

快中子照射在矽晶圓內部去疪製程的改善與研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	魏俊桓
出版地:	台北巿
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	87頁 :
標題:	電子工程 -
附註:	MOE87-1004-8676002;廖森茂,藍山明指導教授

快中子照射在矽晶圓內部去疪製程的改善與研究
魏俊桓

快中子照射在矽晶圓內部去疪製程的改善與研究 / 魏俊桓撰 - 台北巿 : 國科會科學技術資料中心 - 87頁.
MOE87-1004-8676002;廖森茂,藍山明指導教授.
電子工程

快中子照射在矽晶圓內部去疪製程的改善與研究
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典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000786

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料

MF 448.6 2624-A

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