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利用cvd teos在二矽烷複晶矽和疊結構複晶矽薄上沈積氧化屬之特性分析
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陳萬得
利用cvd teos在二矽烷複晶矽和疊結構複晶矽薄上沈積氧化屬之特性分析
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
陳萬得
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
108頁 :
標題:
電子工程 -
附註:
MOE87-0007-8611518；電添福 指導教授
利用cvd teos在二矽烷複晶矽和疊結構複晶矽薄上沈積氧化屬之特性分析
陳萬得
利用cvd teos在二矽烷複晶矽和疊結構複晶矽薄上沈積氧化屬之特性分析
/ 陳萬得 撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 108頁.
MOE87-0007-8611518；電添福 指導教授.
電子工程
利用cvd teos在二矽烷複晶矽和疊結構複晶矽薄上沈積氧化屬之特性分析
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20010118
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
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館藏流通類別
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833448600000527
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微縮資料
MF 448.6 7542 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
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833448600000528
三樓視聽資料區
3.不外借
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MF 448.6 7542 V2
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