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超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究

~

交通大學電子工程所

超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究

レコード種別:	マイクロフィルム : モノグラフ
著者:	陳志遠
副次的な著作責任 :	交通大學電子工程所
出版された:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
記述:	85頁 : 11x15公分;
主題:	電子工程 -
注記:	MOE88-0007-8711562

超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究
陳志遠

超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究 / 陳志遠撰 ; 交通大學電子工程所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 85頁 ; 11x15公分.
MOE88-0007-8711562.
電子工程

超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究
LDR:00401nhm 2200133 450 001 291008
009 9205026
100 $a 20100608d1999 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 超淺接面製程及鈦鈷堆疊結構形成矽化鈷之特性研究 $f 陳志遠撰 $g 交通大學電子工程所
210 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 $d 1999
215 $a 85頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-0007-8711562
606 $a 電子工程 $3 505
700 $a 陳志遠 $4 撰 $3 91654
712 $a 交通大學電子工程所 $3 319146
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20030306

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3.不外借

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