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[ subject:"Integrated circuits-Design..." ]
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Characterization of plasma-enhanced ...
~
HessDennis W. editor
Characterization of plasma-enhanced cvd processes
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
書名/作者:
Characterization of plasma-enhanced cvd processes/ Hess,Dennis W. editor;Ibbotson,Dale E. editor;Lucovsky,Gerald editor
作者:
HessDennis W. editor
其他作者:
IbbotsonDale E. editor
出版者:
Pennsylvania : Materials Research Society, 1990
面頁冊數:
250頁; 24x16公分
標題:
Plasma-Enhanced chemical...
標題:
Integrated circuits-Design...
ISBN:
1558990534(精裝)
Characterization of plasma-enhanced cvd processes
HessDennis W. editor
Characterization of plasma-enhanced cvd processes
Hess,Dennis W. editor;Ibbotson,Dale E. editor;Lucovsky,Gerald editor - PennsylvaniaMaterials Research Society1990 - 250頁24x16公分 - MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS165.
ISBN: 1558990534(精裝)Subjects--Topical Terms:
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Plasma-Enhanced chemical...
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四樓西文圖書區
館藏
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附件
801621381500050
四樓西文圖書區
1.圖書流通
圖書
621.3815 L964
1.一般(Normal)
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